等離子用得最廣泛的氣體-tft每日頭條

在使用等離子清洗機時，不同的産品、不同的清洗要求，需要使用不同的配方進行清洗，我在使用時需要進行多次測試，找到合适的工藝參數進行生産。

等離子用得最廣泛的氣體（氣體種類非常多）1

氣體

如此多的氣體的種類，哪些是等離子清洗機常用的呢？今天我們就聊聊哪些可以應用在等離子表面處理行業中。

氧氣：主要清洗物體表面的有機物，發生氧化反應。例如,有機污染物可以有效地用氧氣等離子去掉,這裡氧氣等離子與污染物反應,産生二氧化碳、一氧化碳和水。

氩氣：物理轟擊是氩氣清洗的機理。氩氣是最有效的物理等離子體清洗氣體,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轟擊樣品表面。正的氩離子将被吸引到負向電極闆。撞擊力足以去除表面上的任何污垢。然後這些氣态污物通過真空泵排出。

氮氣：氮氣電離形成的等離子體能夠與部分分子結構發生鍵合反應，所以也是一種活性氣體，但相對于氧氣和氫氣而言，其粒子比較重；在清洗活化的同時能夠達到一定轟擊、刻蝕的效果，同時能夠防止部分金屬表面出現氧化。

等離子用得最廣泛的氣體（氣體種類非常多）2

等離子清洗機放電狀态

氫氣：氫氣可供去除金屬表面氧化物使用。它經常與氩氣混合使用,以提高去除速度。一般人們擔心氫氣的易燃性,氫氣的使用量非常少。人們更大的擔心是氫氣的存儲。我們可以采用氫氣發生器從水中産生氫氣。從而去掉了潛在的危害性。

CF4：氟化的氣體在半導體工業以及PWB (印制線路闆)工業上應用非常廣泛。在IC封裝中的應用隻有一種。這些氣體用在PADS工藝中,通過這種處理,氧化物轉化成氟氧化物,允許無流動焊接。

以上5種氣體是等離子清洗機行業常用的工藝氣體，當然在一些産品中還有其它氣體的使用，應用的方式非常豐富，我們需要根據工藝、成本等多方面進行選擇，獲得好的等離子表面處理方案。

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