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德創科技清洗機
德創科技清洗機
更新时间:2025-03-22 08:12:13

單片清洗機-華林科納CSEsingle wafer cleaner system

華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻闆清洗)刻蝕去膠金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12”;

可處理晶四材料︰矽砷化镕磷化锢氮化邃碳化矽銀酸锂袒酸锂等;

主要應用領域︰集成電路聲表面波器件微波毫米波器件MEMS先進封裝等

設備名稱

CSE-單片清洗機

類型

單片式

适用領域

半導體、太陽能、液品、MEMS等

清洗方式

2英寸——12英寸

設備穩定性

1、≥0.2um顆粒少于10顆

2、金屬附着量:<3E10 atoms/ cm-

3、純水消耗量: 1L/min/片

4、蝕刻均一性良好(Si0z氧化膜被稀釋HF處理):名2%

5、幹燥時間:≤20S

6、藥液回收率:≥95%

單片式優點

1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)

單片清洗機

德創科技清洗機(單片清洗機-華林科納)1

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