高純電子級硫酸屬于超淨高純試劑，是一種微電子技術發展過程中不可缺少的關鍵基礎化學試劑，廣泛應用于半導體、超大規模集成電路的裝配和加工過程，主要用于矽晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質顆粒、無機殘留物和碳沉積物。高純電子級硫酸的純度和潔淨度對電子元件的成品率、電性能及可靠性有着重要的影響。
目前，高純電子級硫酸的核心技術被德國、日本、美國等國家壟斷，其關鍵技術的國内外文獻報道甚少。在國際上能大規模生産高純度硫酸的公司僅有少數幾家，如巴斯夫、三菱化學、關東化學、Chemtrade、艾萬拓公司、聯仕電子等。中國高純電子級硫酸行業發展起步較晚，長期以來市場需求都主要依賴于進口産品，尤其是中高檔等級的産品，對進口産品的依賴度極高。近年來，中國半導體産業得到較快發展，高純電子級硫酸的需求也不斷增長，為避免國内産業發展被外企扼住咽喉，高純度硫酸的相關研究投入不斷增多，也取得較多的技術成果。目前，國内具備高純電子級硫酸規模化生産的企業數量不斷增多。
近年來，随着中國半導體産業的崛起，國産化率不斷提升，迫切需要上下遊産業鍊布局的完善性，對高純電子級硫酸的需求量呈現快速增長的态勢。根據新思界産業研究中心發布的《2022-2026年高純電子級硫酸行業深度市場調研及投資策略建議報告》，2021年中國高純電子級硫酸消費量達到10萬噸。
新思界行業分析師表示，未來随着生産技術水平的提升，高純電子級硫酸在半導體、液晶面闆等領域中的需求将會持續增長，同時新的應用領域也将會不斷開拓，促使産品市場需求不斷釋放，推動整體行業得到快速發展，産業發展前景廣闊。
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