本文總結了高中要求的所有常見無機物的工業制備方法，包括工業制HNO3、H2SO4、HCl、氨氣、玻璃等，方便學生進行系統複習。

　　1.工業制HNO3

　　4NH3 5O2=（催化劑、△）4NO 6H2O

　　（反應條件：800度高溫，催化劑鉑铑合金作用下）

　　2NO O2=2NO2

　　3NO2 O2=2HNO3 NO

　　2.工業制H2SO4

　　沸騰爐：

　　4FeS2 11O2=（高溫）2Fe2O3 8SO2

　　接觸室：

　　2SO2 O2⇌（加熱、催化劑）2SO3

　　吸收塔：

　　SO3 H2O=（高溫）H2SO4

　　3. 工業制HCl H2 Cl2=（點燃）2HCl

　　然後用水吸收，在合成塔内完成

　　4.工業制燒堿 2NaCl 2H2O=(電解)H2↑ Cl2↑ 2NaOH

　　5.工業制純堿（侯氏制堿法） NH3 H2O CO2=NH4HCO3

　　NH4HCO3 NaCl=NaHCO3 NH4Cl（NaHCO3結晶析出）

　　總：NaCl＋NH3＋CO2＋H2O＝NaHCO3＋NH4Cl

　　2NaHCO3=（△）Na2CO3 H2O CO2

　　6.工業制氨氣

　　合成塔：

　　3H2 N2⇌（高溫高壓催化劑）2NH3

　　注：催化劑為鐵觸媒

　　7. 工業制玻璃（設備名稱：玻璃窯） Na2CO3 SiO2=（高溫）Na2SiO3 CO2↑

　　CaCO3 SiO2=（高溫）CaSiO3 CO2↑

　　8. 工業制矽 利用反應 SiO2 2C=（高溫） Si 2CO↑

　　能得到不純的粗矽。粗矽需進行精制，才能得到高純度矽。

　　首先，使Si跟Cl2起反應： Si 2Cl2=SiCl4（400 ℃～500 ℃）

　　生成的SiCl4液體通過精餾，除去其中的硼、砷等雜質。然後，用H2還原SiCl4： SiCl4＋2H2=（高溫） Si 4HCl這樣就可得到純度較高的多晶矽。

　　9. 工業制漂白粉 2Cl2 2Ca(OH)2=CaCl2 Ca(ClO)2 2H2O

　　10. 工業腐蝕印刷電路闆 2FeCl3 Cu=2FeCl2 CuCl2

　　2Fe3 Cu=2Fe2 Cu2

　　11. 工業制金屬Na

　　2NaCl=（電解）2Na Cl2↑

　　12.工業制金屬Mg MgCl2=（電解）Mg Cl2↑

　　13.工業制金屬Al

　　2Al2O3=（電解）4Al 3O2↑

　　注：催化劑為熔融的冰晶石，化學式為NaAlF6

　　14.工業制生石灰、二氧化碳

　　高溫煅燒石灰石：

　　CaCO3=（高溫） CaO CO2

　　15.高爐煉鐵

　　Fe2O3 3CO=(高溫)2Fe 3CO2

　　16.工業制取水煤氣 C H2O=（高溫）CO H2

　　17. 粗銅的精煉

　　電解：陽極用粗銅

　　陽極：Cu－2e－＝Cu2＋

　　陰極：Cu2＋＋2e－＝Cu

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