侵犯專利罪的構成要件如下：
1、客體要件
侵犯專利罪侵犯的客體是他人的專利所有權和國家的專利管理制度。
2、客觀要件
(1)具有假冒他人專利的行為。
(2)假冒專利的行為必須是發生在專利權期限内。
(3)情節嚴重是構成本罪的必備要件。情節嚴重是指假冒他人專利手段惡劣、非法獲利數額較大、給專利人或國家造成重大損害的、在國際國内造成惡劣影響的等。
3、主體要件
侵犯專利罪的主體是一般主體，企業、事業單位和個人均可構成。
4、主觀方面
侵犯專利罪的主觀方面是故意，一般具有非法獲取經濟利益的目的，但也有的是出于損害他人的聲譽，破壞他人專利權益的目的。
【法律依據】
《刑法》第二百一十六條規定，假冒他人專利，情節嚴重的，處三年以下有期徒刑或者拘役，并處或者單處罰金。
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