1、光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.
2、因為芯片遠比這小得多，動不動就是nm的，這些最小也就是μm級别，那麼到底是什麼刻刀能做到這麼精細。所以就想到了，用光線在芯片上刻，就是光刻機。
3、Photolithography（光刻）意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在矽片表面勻膠，然後将掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程将器件或電路結構臨時“複制”到矽片上的過程。形象的來說光刻機就是個“投影儀”，把我們想要的圖案投影到芯片上。
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