國泰真空全自主研發幾年時間
設計出GTRF-17和GTRF-23兩款大功率RF離子源，
提供高質量薄膜和穩定的工藝操作。
打破了國外市場對國産鍍膜行業的技術封鎖，同時也激勵了國内的同行制造業。
RF離子源-首先使用13.56MHz高頻信号激勵電離子體，
産生等離子體，然後分别抽出離子、電子，
讓其在空間内中和形成等離子體的高能離子源。
主要運用于高度控制的光學鍍膜的離子束輔助沉積或離子束沉積
國泰真空設計制造的RF離子源利用多層立體栅網确保離子束方向性，
支持離子束流和能量分别獨立控制。
具有工作時間長，能量高，均勻區大，污染小等優點。
水煮15分鐘，曲線無基本變化；鏡片粘拉後未發現膜掉情況
射頻離子源通過改進能量和電流的均勻度，
提高了膜層的堆積密度和材料的氧化度。
抑制溫度漂移、波長漂移以及解決了膜層牢固度和膜料折射率等問題。
适用于半導體、航天、光通訊、醫療、傳感器等多個高端鍍膜應用。
品質鑄就傳奇
實力孕育精品
—國泰真空—
國内領先的光學真空鍍膜設備制造商
定制化方案設計|高品質設備配置
精細的調試優化|全時段服務支持
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